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本申请实施例提供了一种用于化学机械抛光的监测方法和化学机械抛光设备，其中方法包括：通过承载头加载待抛光的晶圆，将所述晶圆抵接于抛光盘上方的抛光垫，并通过供液装置朝向所述抛光垫与所述晶圆之间供给抛光液；通过修整器对抛光垫进行修整，并获取修整器...
该专利属于华海清科股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华海清科股份有限公司授权不得商用。

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