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本技术提供了一种气氛炉体，包括加热管、多个设在加热管内的反应管及炉门，反应管内被用于放置多个承载了待反应硅片的载舟；多个反应管外设有独立的第一加热体，加热管的内壁设有第二加热体；多个反应管上设有反应气体输入管，反应管的顶壁包含在加热管的顶壁...
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