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本申请涉及电子管栅极领域，具体公开了一种电子管栅极用钼片光刻工艺，包括如下操作步骤：S1配胶：将抗蚀剂，增感剂溶于环己酮中，放置20‑24h后进行过滤得到光刻胶；S2涂胶：将S1得到的光刻胶涂在钼片的正、反两面，然后干燥得到涂胶钼片；S3晒...
该专利属于北京科达恒睿科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京科达恒睿科技有限公司授权不得商用。

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