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本发明公开了一种单叶式半导体基板清洗装置，包括工艺腔体，工艺腔体上设置有用于转移半导体基板的闸阀，工艺腔体内设置有用于喷射液体的喷嘴、用于喷射气体的淋浴头和用于固定半导体基板的旋转卡盘，旋转卡盘由一电机驱动转动；工艺腔体内设置有用于承接废液...
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