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本发明公开了一种光刻胶涂覆监测方法及其设备。为了保证工艺质量指标，本发明在光刻胶涂覆工序中采用基于机器视觉的监测、分析手段，通过对光刻胶涂覆后的基片进行成像拍摄并执行图像分析，可以实时检测光刻胶在基片上的涂覆均匀性，避免涂覆不均匀导致的质量...
该专利属于信联电子材料科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过信联电子材料科技股份有限公司授权不得商用。

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