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本发明公开了一种掩埋型反射式全介质衍射光栅及其制备方法，涉及光学领域。所述光栅从下至上包括光栅基底、反射膜、相位匹配层、低折射率材料光栅层、高折射率材料填充层以及光栅保护层。本发明提供的光栅结构针对TE模式和TM模式在利特罗角入射条件下在1...
该专利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心所有，仅供学习研究参考，未经过中国工程物理研究院激光聚变研究中心授权不得商用。

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