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提供基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法，能抑制还原不足。基板处理装置使在表面包括金属层的基板(S)的表面还原，具备：腔主体(42)；加热板(22)，收纳于腔主体(42)，在加热板(22)载置基板(S)；等离子体生成部(43)，向腔主...
该专利属于株式会社爱发科所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社爱发科授权不得商用。

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