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本技术公开一种表面清洁设备、基站以及清洁系统。所述表面清洁设备包括设备主体、收纳容器、设备水箱以及第一自清洁机构，所述收纳容器设于所述设备主体，并用于收纳垃圾。所述设备水箱设于所述设备主体。所述第一自清洁机构包括第一喷头和第一水泵，所述第一...
该专利属于追觅创新科技（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过追觅创新科技（苏州）有限公司授权不得商用。

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