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本技术涉及电容器金属化薄膜技术领域，且公开了一种薄膜分切结构的金属化薄膜，包括：金属化层和基底薄膜，所述金属化层通过真空金属化工沉积在基底薄膜的顶部，所述基底薄膜的顶部位于金属化层的两侧设置有屏蔽带，所述屏蔽带的数量为若干个，所述屏蔽带上设...
该专利属于昆山泓创新能源科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山泓创新能源科技有限公司授权不得商用。

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