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本发明提出一种提高飞秒激光刻写光纤光栅透射谱深度的方法及装置，利用飞秒激光在双包层光纤上刻写光纤光栅，其中所述双包层光纤包括纤芯、内包层和外包层，所述内包层的横截面为多边形且所述多边形中至少一个转角为弧形转角；所述飞秒激光从所述内包层的弧形...
该专利属于中国人民解放军国防科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国人民解放军国防科技大学授权不得商用。

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