下载像素界定层制备方法的技术资料

文档序号:40469848

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本发明涉及像素界定层制备方法,包括:感光性组合物的涂布及涂层;预烘烤;曝光;显影;及后烘处理步骤,所述后烘处理步骤的烤箱温度为210℃至300℃,所述后烘处理步骤的实施时间为30分钟至120分钟,在后烘处理步骤发生的烟雾量为86ppm以上,...
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