温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种化学机械抛光装置及化学机械抛光设备。一种化学机械抛光装置，包括：承载台，可绕中心转动，具有承载面，适于承载待抛光件；抛光液供给组件，出口朝向所述承载面设置，适于提供抛光液；抛光组件，设于所述承载台上...
该专利属于北京晶亦精微科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京晶亦精微科技股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。