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本发明提供了一种用于制备高质量钨合金SEM及EBSD样品的电解抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：一、对钨基合金样品进行初步打磨及机械抛光处理。二、配置特定电解抛光溶液：所用电解抛光溶液组成为：30gKOH及1LH2O组成的碱溶液，其中KO...
该专利属于中国科学院金属研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院金属研究所授权不得商用。

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