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本发明提供了一种位置测量方法、位置测量系统以及光刻设备，位置测量系统，包括被测目标、读头和光源，所述读头包括第一分光单元和反向回射元件，所述光源发射的光束经所述第一分光单元分成方向不同的第一光束和第二光束，所述第一光束和第二光束经所述被测目...
该专利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备（集团）股份有限公司授权不得商用。

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