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本发明公开了一种制备悬浮式三维谐振腔量子比特的湿法刻蚀方法，较于传统的三维谐振腔量子比特，本发明引入了一种创新的悬空三维谐振腔量子比特。在传统的三维腔量子比特中，为了提高金属‑基底界面的纯净度并减小表面介电损耗，通常采用氧等离子体清洗、酸洗...
该专利属于南京大学所有，仅供学习研究参考，未经过南京大学授权不得商用。

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