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本发明属于有色冶金技术领域，具体公开一种真空蒸馏炉及制备高纯铜的方法。所述真空蒸馏炉包括蒸发炉、冷凝炉、气道，蒸发炉的蒸发炉体上部及底部分设加料口、排渣口，蒸发炉体设有加热单元且顶端设有顶盖；冷凝炉的冷凝炉体顶端设有真空管且上部和/或中部自...
该专利属于昆明冶金研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆明冶金研究院有限公司授权不得商用。

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