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提供了使用激光辐射来清洁表面的方法和系统。在一个示例中，使用激光辐射来清洁表面的系统包括：激光源，所述激光源被配置为产生激光辐射，所述激光源被配置为以清洁模式发射激光辐射，所述清洁模式被表征为调制连续波(CW)模式，所述调制连续波模式具有小...
该专利属于IPG光子公司所有，仅供学习研究参考，未经过IPG光子公司授权不得商用。

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