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本发明公开了一种自适应结构单晶叶片的制备方法，包括以下步骤：快冷均匀化处理，在大尺寸γ′相溶解线以上温度处理4‑30小时，充分溶解铸态组织后以大于1000℃/s的速度冷却至室温，以大量析出小尺寸γ′相；自适应结构处理，在叶片实际服役环境中处...
该专利属于浙江大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学授权不得商用。

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