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本发明公开了宽禁带高激光损伤阈值二阶非线性光学薄膜及制备方法。该薄膜是具有宽禁带、高激光损伤阈值和高二阶非线性极化率的a轴取向Li掺杂Zn<subgt;1‑x</subgt;Mg<subgt;x</subgt;O[0...
该专利属于北京工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京工业大学授权不得商用。

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