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本申请属于半导体制造设备技术领域，具体涉及一种进气装置、薄膜沉积设备及薄膜沉积方法，进气组件与供气装置连接，所述进气装置包括进气组件和调速组件，所述进气组件用于将所述供气装置提供的反应气体通入反应室，所述调速组件设置在所述进气组件和所述供气...
该专利属于深圳市昇维旭技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市昇维旭技术有限公司授权不得商用。

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