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本发明涉及一种用于低压化学气相沉积反应器中的气体注入系统，包括顶部注入单元、上部注入单元和下部注入单元，置于立式炉反应器内部的三个注入单元均为圆柱形中空结构，三个注入单元的尾部与气体管路末端的连接件支撑嵌套连接；大流量气体通道的顶部注入单元...
该专利属于上海微釜半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微釜半导体设备有限公司授权不得商用。

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