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本技术属于样本制备技术领域，公开了一种顶升装置及样本制备系统。该顶升装置包括限位机构、顶升机构和吸附组件；限位机构包括沿第一方向相对设置的活动限位件和固定限位件，活动限位件和固定限位件之间具有限位空间，活动限位件能沿第一方向移动，活动限位件...
该专利属于深圳华大智造科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳华大智造科技股份有限公司授权不得商用。

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