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本技术公开了一种加热均匀的陶瓷烧制窑炉，包括底座、加热组件，所述加热组件安装在所述底座上方，还包括用于带动陶胚进行公转的第一旋转机构，所述第一旋转机构安装在所述底座上，所述第一旋转机构包括第一旋转组件、转动块、固定柱、放置盘，所述转动块安装...
该专利属于大埔县益成实业有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过大埔县益成实业有限公司授权不得商用。

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