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本发明公开一种挡环装置、等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机，该挡环装置包括气流挡环(110)和遮挡部件(111)，其气流挡环(110)固定设置在刻蚀腔的电极罩(109)上，该气流挡环(110)具有径向贯通的通过口(1101)，通过口(110...
该专利属于江苏鲁汶仪器股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏鲁汶仪器股份有限公司授权不得商用。

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