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本发明公开了一种含有噻吩侧基的聚吡咯衍生物及其制备方法，属于高分子荧光材料技术领域。本发明通过将一定浓度的3‑噻吩甲醛的二氧六环溶液在搅拌的条件下加入浓硫酸；再将N‑甲基吡咯溶于二氧六环中，滴加到反应体系中，再补加浓硫酸；持续搅拌，得到硫酸...
该专利属于滁州学院所有，仅供学习研究参考，未经过滁州学院授权不得商用。

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