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本公开提供了一种减少外延晶圆缺陷的方法、装置及外延晶圆的制造方法。该减少外延晶圆缺陷的方法包括：获取在传片测试过程中形成在评估晶圆表面的评估缺陷；检测所述评估缺陷的缺陷类型；根据缺陷类型与部件之间的对应关系，确定产生所述评估缺陷的部件；针对...
该专利属于西安奕斯伟材料科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安奕斯伟材料科技股份有限公司授权不得商用。

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