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本发明公开一种优化晶圆中心光刻胶厚度的涂胶方法。本发明在涂胶过程中加入喷气步骤，有利于优化晶圆中心厚度，控制光刻胶厚度均匀性，减小晶圆中间堆积光刻胶的概率。气体喷嘴距离晶圆表面的距离与气体喷嘴喷出气体的气压，决定了喷气步骤中晶圆中间区域膜厚...
该专利属于浙江大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学授权不得商用。

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