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本发明涉及表面工程技术领域，特别是涉及一种磁控溅射复合PECVD制备类金刚石膜的装置及方法。本发明提供了一种DLC膜的制备装置及方法，本发明采用含双层栅网的PECVD装置，首先采用磁控溅射法制备金属过渡层，实现了基体到DLC涂层的良好过渡，...
该专利属于中国航空制造技术研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国航空制造技术研究院授权不得商用。

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