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本技术揭示了有效抵消不平衡注塑射压的薄片镶件成型结构,包括下模仁,所述下模仁包括第一本体,所述第一本体的侧边设置有与其外壁平齐布置的至少一固定镶件,所述第一本体的内部设置有升降布置的至少一活动镶件,所述活动镶件与固定镶件之间形成注塑型腔,所...该专利属于泰德兴精密电子(昆山)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过泰德兴精密电子(昆山)有限公司授权不得商用。
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本技术揭示了有效抵消不平衡注塑射压的薄片镶件成型结构,包括下模仁,所述下模仁包括第一本体,所述第一本体的侧边设置有与其外壁平齐布置的至少一固定镶件,所述第一本体的内部设置有升降布置的至少一活动镶件,所述活动镶件与固定镶件之间形成注塑型腔,所...