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本发明涉及聚氨酯技术领域，公开了一种半导体光刻胶专用高分子聚氨酯及其生产工艺；本发明通过自制的N‑马来酰亚胺基苯并恶唑光敏剂接枝在MOF上加入聚氨酯中，制备得到一种具有良好的光学性能、耐磨性和耐化学性等特点的半导体光刻胶专用高分子聚氨酯，用...
该专利属于无锡爱勒普科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡爱勒普科技有限公司授权不得商用。

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