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本公开涉及PIC(1)，该PIC(1)包括具有改进设计的基于InP的偏振旋转器(2)，该改进设计由于在PIC的基于InP的偏振旋转器的临界尺寸的减小的变化和在PIC的基于InP的偏振旋转器的制造期间的减小的覆盖误差中的至少一者，使得PIC的...
该专利属于效能光子私人有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过效能光子私人有限责任公司授权不得商用。

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