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本发明为一种薄膜钴合金磁记录盘，有一金属氮化物层位于盘基片和盘上表面之间提供在磁头－盘介面处的盘纹理结构。纹理结构层是由一般邻接的铝氮化物（ＡＩＮ）团粒构成。ＡＩＮ纹理结构是在有Ｎ↓［２］气存在的情况下溅镀Ａｌ耙形成的。其后溅镀沉积的Ｃｒ下...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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