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一种照明源优化，通过改变照明源强度和形状以在用户所选定的分裂点处使最小ＩＬＳ最大化同时使在分裂点处强度在一个小强度范围之内的像面上形成图像，来优化照明源。一种掩模优化，通过改变衍射级量级幅值及相位以在用户所选定的分裂点处使最小ＩＬＳ最大化同...
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