下载半导体结构及其形成方法的技术资料

文档序号:39650096

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一种半导体结构及其形成方法,半导体结构包括:基底;介质层,位于所述基底上,所述介质层内形成有贯穿所述介质层的开口,所述开口包括第一开口和第二开口,沿平行于所述基底顶面的方向,所述第一开口和第二开口位于所述介质层的不同位置处;生长层,位于所述...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

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