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本公开提供了一种基板处理设备，以在单个装置中提供对基板的加热和等离子体处理，并且基板处理设备包括：处理容器，在其中容纳基板；支承构件，在处理容器中支承基板；等离子体提供单元，包括在处理容器内生成等离子体的电极；以及微波引入单元，连接到微波生...
该专利属于细美事有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过细美事有限公司授权不得商用。

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