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本实用新型公开了一种镀膜设备进片室装置，包括：进片室腔室，在所述进片室腔室内设置至少一组布气盒组件，所述布气盒组件与载有硅片的载板具有一定间距，所述布气盒组件包括两个对称分布的布气盒，该两个对称分布的布气盒之间形成一定间隙，在所述间隙对应的...
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