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本发明公开了一种Bi单质与氧缺陷协同修饰的铋钽卤氧化物及其制备方法和应用，属于光催化技术领域，本发明合成了Bi单质与氧缺陷协同修饰的Bi4TaO8Cl光催化剂，利用铋金属的SPR效应，增强了Bi4TaO8Cl对可见光的吸收，形成更多活性自由...
该专利属于重庆师范大学所有，仅供学习研究参考，未经过重庆师范大学授权不得商用。

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