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本发明提供了一种微纳加工方法及其光刻介质，属于微纳加工领域，其采用无机小分子作为光刻介质执行光刻工艺，利用电子、离子或/和光子的高能量束对光刻介质设定区域进行照射，被照射区域的无机小分子发生升华而被刻蚀，直接形成所需的光刻图案。在光刻介质去...
该专利属于华中科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过华中科技大学授权不得商用。

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