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本发明涉及用于识别过程处理设施内的压力测量设备(2)的测量膜片(14)外侧上的沉积物和/或附着物的方法，其中，压力测量设备(2)包括包含测量膜片(14)的压力测量单元(10)并能够检测容器(1)中的介质的压力，并且测量膜片(14)外侧至少部...
该专利属于IFM电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过IFM电子股份有限公司授权不得商用。

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