温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了一种光刻胶斜齿图形的制作方法及斜齿光栅的制作方法，应用于半导体技术领域。由于在本发明提供的光刻胶斜齿图形的制作方法中，其是根据光刻胶的材料在其特定区域上放置作为反射层的反射结构块，然后，基于该反射结构块可以反射光学的特性和灰度光...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。