专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
武汉光迅科技股份有限公司
>
半导体器件及其制造方法技术
>技术资料下载
下载半导体器件及其制造方法的技术资料
文档序号:39242007
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本公开实施例提供了一种半导体器件及其制造方法,其中,半导体器件包括:基底,用于产生光波;光栅层,位于基底上,光栅层包括沿平行于基底所在平面的方向并列设置的第一光栅和第二光栅;其中,第一光栅具有第一周期,第二光栅具有第二周期,第一周期不同于第...
该专利属于武汉光迅科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过武汉光迅科技股份有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。