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厚胶介质补偿紫外光斜入射光刻工艺的光强分布模拟方法提供了一种用于厚胶（ＳＵ－８胶）介质补偿紫外光斜入射光刻工艺的光强分布模拟方法，ａ、基于光学标量衍射理论的菲涅耳—基尔霍夫衍射积分方程，利用紫外光斜入射的旁轴近似技术来处理这个积分方程。同时...
该专利属于东南大学所有，仅供学习研究参考，未经过东南大学授权不得商用。

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