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一种处理盒的再制造方法及再生处理盒技术
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文档序号:39180769
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本发明公开一种处理盒的再制造方法及再生处理盒,其中,处理盒包括处理盒主体,处理盒主体在第一方向上延伸,检测部件设置于处理盒主体在第一方向上的第一端,检测部件用于图像形成装置识别处理盒;处理盒的再制造方法包括以下步骤:拆卸步骤,拆卸处理盒主体...
该专利属于纳思达股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过纳思达股份有限公司授权不得商用。
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