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本发明提供一种光栅掩膜及光栅的制备方法，光栅掩膜的制备方法包括：根据曝光操作中曝光光场的能量分布确定基板不同区域的匀胶胶厚；基于确定的所述基板不同区域的匀胶胶厚，在基板上分次旋涂光刻胶，使得基板不同区域具有对应的所述匀胶胶厚，得到设置光刻胶...
该专利属于北京至格科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京至格科技有限公司授权不得商用。

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