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本实用新型公开了一种制药设备用清洗装置，属于制药设备技术领域，其包括底板，所述底板上设有两个立杆，所述立杆内设有调节组件，所述调节组件内设有电机，所述电机的输出轴设有固定板，所述固定板下设有转动组件，所述固定板下设有两个清理组件，所述转动组...
该专利属于邱建清所有，仅供学习研究参考，未经过邱建清授权不得商用。

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