下载高磁通量的钴铁基合金磁性溅射靶材及其制造方法的技术资料

文档序号:3899193

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本发明提供一种高磁通量的钴铁基合金磁性溅射靶材,是以熔炼铸造所制成,且由钴、铁以及添加金属所组成的磁性溅射靶材,其中该添加金属是一种以上选自于由钽(Ta)、锆(Zr)、铌(Nb)、铪(Hf)、铝(Al)以及铬(Cr)所组成的群组。借由钴铁比...
该专利属于光洋应用材料科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过光洋应用材料科技股份有限公司授权不得商用。

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