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本发明涉及太阳能电池技术领域，具体提供一种半导体衬底的抛光方法，包括：提供半导体衬底；对半导体衬底进行超声碱洗；对半导体衬底进行抛光处理，以降低半导体衬底的两侧表面的线痕度；抛光处理采用抛光处理液，抛光处理液包括碱液、抛光辅助剂以及去离子水...
该专利属于安徽华晟新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽华晟新材料有限公司授权不得商用。

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