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第一转换层材料形成在衬底的未被掩蔽的像素区域上。从第二像素区域集合选择性地移除掩模材料，留下被掩蔽的第三像素区域集合。在第二像素区域的侧壁上形成涂层，并且然后在第二像素区域上并抵靠它们的侧壁形成第二转换层材料。从第三像素区域移除掩模材料，在...
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