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本实用新型涉及机械设备技术领域，尤其是涉及的是一种用于精梳机的清理装置。其包括机架、清洁托板、调控组件、清洁架、清洁组件，机架上设置有清洁托板，清洁托板通过调控组件调节其高度，清洁架上装设有清洁组件，清洁组件位于清洁托板上方，调控组件包括第...
该专利属于伟嘉纺织集团有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过伟嘉纺织集团有限公司授权不得商用。

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