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本发明公开了一种晶圆清洗装置和晶圆后处理装备，所述晶圆清洗装置包括：箱体；支撑部，其设置于箱体中，以竖向支撑待清洗的晶圆；振板，其倾斜设置于箱体中，以从侧向提供高频振动；喷液部，其朝向振板围成的内槽喷射流体，以将高频振动剥离的污染物从内槽的...
该专利属于华海清科股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华海清科股份有限公司授权不得商用。

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